Експонометрія, розділ фотографії, в якому визначають умови експонування фотографічних матеріалів при фото- і кінозйомках різних об'єктів або при фотокопіюванні, що забезпечують найкращу якість отримуваних зображень (по критеріях якості, прийнятих в даної області фотографії). Основою Е. служить відоме в оптиці співвідношення між яскравістю В об'єкту, що змальовується оптичною системою з відносним отвором 1: n (де n — позитивне число), і освітленістю Е отримуваного зображення: Е = gbn -2 , тут g — коефіцієнт, що враховує светопотері в камері, розподіл освітленості в плоскості зображення, кут, під яким спостерігається та або інша точка зображення, і пр. При витримці t фотоматеріал отримує експозицію Н = E · t, а облік практичною світлочутливості матеріалу S = а/Н дає основне рівняння Е.: B=k · n 2 / ts. Величина до = a/g називається експонометром постійною. Це рівняння зв'язує лише інтегральні характеристики об'єкту, фотоматеріалу і системи, що змальовує. З нього виходили при розробці всіх експонометрів до появи високочутливих малогабаритних фотоелектричних приймачів світла . Останні дозволили вирішувати задачу локальної Е., тобто визначати умови експонування по яскравості сюжетно важливій частині об'єкту. Значення до і інтервалів їх зміни нормуються відповідно сфері їх застосування. Для експонометрів, вбудованих у фотоапарат загального призначення, вибирають значення до в інтервалі від 10 до 17; для експонометрів, не пов'язаних конструктивно з апаратом, в інтервалі 10—13,5.
Тип функціонального зв'язку вбудованих систем експонометрів з механізмами, що встановлюють умови роботи апарату при зйомці, значною мірою визначає міру автоматизації знімального процесу і служить важливою характеристикою фото- і кіноапаратури.
Літ.: Гальперін А. Ст, Визначення фотографічної експозиції. Експонометрія для кино- і фотоаматорів, М., 1955; Кулагин С. Ст, Проектування фото- і кіноприладів, М., 1971; Давидкин І. М., Погрішності приладів експонометрів, «Оптіко-механічна промисловість», 1974 № 6.
